空化射流打擊效果的影響(xiǎng)因素
時間:2016-10-17 16:29:30作(zuò)者(zhě):LeeZhou來源(yuán):德高潔清潔設備(bèi)
空(kōng)化射流技術是將空化作用(yòng)引入到高壓(yā)水射流而形成的一種高壓水射(shè)流技術,同(tóng)等條(tiáo)件下空化射流更具破碎和切割能力。其原理是通過控製壓力、流速等參數使(shǐ)水流束經(jīng)過空化噴嘴(zuǐ)時產(chǎn)生大量(liàng)的空化泡,利用空化泡在材料表麵的狹小區域內潰滅產生高(gāo)達140~170 MPa的微射流衝(chōng)擊,達到清理設施表麵附著物和汙垢層的目的。實驗表明噴嘴(zuǐ)型號、打擊時間、入口壓力等(děng)都對打擊效果有不同程度的影(yǐng)響。本文主要分析(xī)影響空化(huà)射流打擊效果的影(yǐng)響因素。

1、噴嘴對比(bǐ)
噴嘴(zuǐ)型號主要分為(wéi)角形噴嘴和錐形噴嘴,角形噴嘴擴散段加強了噴嘴出口射流與周圍水的剪切作用,產生更多(duō)的空化泡,打擊麵成環狀分布。相同(tóng)條件下,角形噴嘴的空化射流打擊效果優於(yú)錐形噴嘴。
2、時間對(duì)比
在相同噴嘴、壓力和靶距的條件下,打擊時間5 min和10 min效果相(xiàng)近,隨著(zhe)打擊時間增(zēng)加(jiā),空蝕麵積逐漸增大。15 min以後,增加打擊時間效果變化不明顯,所以空化(huà)射流打擊過程中優選時間為5 min.
3、壓力對比
實驗使用角形噴嘴打擊5 min,入(rù)口壓力為5 MPa時打擊效果不明顯;在10MPa時,打擊(jī)效果較好,為合格打擊壓力;15和20 MPa時空蝕點較少。
4、靶距對比
對同一噴嘴不同(tóng)入口壓力條件下的靶距和打擊效果進(jìn)行(háng)對比,結果顯示入口壓力為10 MPa時,靶距為20 d效果較好;入口壓(yā)力為15 MPa時,靶(bǎ)距為30 d效果較好。

實驗結果(guǒ)綜述(shù):對於一個固定角形噴嘴存在較佳打擊時間為5 min;不同入口壓力對應不同的合適靶距。空化射流(liú)中噴(pēn)嘴的幾何特征對空化效果的影(yǐng)響很(hěn)大,角形噴嘴擴散段長度對空(kōng)化效果有影響,擴散(sàn)段越長,空化效果越好,角形噴嘴的空化效果遠優於錐形噴嘴。
具體原理是將空化(huà)作用引入(rù)水射流技術中而形成的新型(xíng)水下設施清洗技術。通過控(kòng)製壓力、流速等參(cān)數使水流束經過空(kōng)化噴嘴時(shí)產生大量的空化(huà)泡,利用空化泡在材料(liào)表麵的狹(xiá)小區(qū)域內潰滅產生高(gāo)達140~170 MPa的微射流衝擊,達到清(qīng)理設施表麵附著物(wù)和(hé)汙垢(gòu)層的目的。

1、噴嘴對比(bǐ)
噴嘴(zuǐ)型號主要分為(wéi)角形噴嘴和錐形噴嘴,角形噴嘴擴散段加強了噴嘴出口射流與周圍水的剪切作用,產生更多(duō)的空化泡,打擊麵成環狀分布。相同(tóng)條件下,角形噴嘴的空化射流打擊效果優於(yú)錐形噴嘴。
2、時間對(duì)比
在相同噴嘴、壓力和靶距的條件下,打擊時間5 min和10 min效果相(xiàng)近,隨著(zhe)打擊時間增(zēng)加(jiā),空蝕麵積逐漸增大。15 min以後,增加打擊時間效果變化不明顯,所以空化(huà)射流打擊過程中優選時間為5 min.
3、壓力對比
實驗使用角形噴嘴打擊5 min,入(rù)口壓力為5 MPa時打擊效果不明顯;在10MPa時,打擊(jī)效果較好,為合格打擊壓力;15和20 MPa時空蝕點較少。
4、靶距對比
對同一噴嘴不同(tóng)入口壓力條件下的靶距和打擊效果進(jìn)行(háng)對比,結果顯示入口壓力為10 MPa時,靶距為20 d效果較好;入口壓(yā)力為15 MPa時,靶(bǎ)距為30 d效果較好。

實驗結果(guǒ)綜述(shù):對於一個固定角形噴嘴存在較佳打擊時間為5 min;不同入口壓力對應不同的合適靶距。空化射流(liú)中噴(pēn)嘴的幾何特征對空化效果的影(yǐng)響很(hěn)大,角形噴嘴擴散段長度對空(kōng)化效果有影響,擴散(sàn)段越長,空化效果越好,角形噴嘴的空化效果遠優於錐形噴嘴。
具體原理是將空化(huà)作用引入(rù)水射流技術中而形成的新型(xíng)水下設施清洗技術。通過控(kòng)製壓力、流速等參(cān)數使水流束經過空(kōng)化噴嘴時(shí)產生大量的空化(huà)泡,利用空化泡在材料(liào)表麵的狹(xiá)小區(qū)域內潰滅產生高(gāo)達140~170 MPa的微射流衝擊,達到清(qīng)理設施表麵附著物(wù)和(hé)汙垢(gòu)層的目的。
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