德高潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統及清（qīng）洗注意事項（xiàng）

目前，隨著光伏（fú）產業的快速發展，對多晶矽的需求量也日趨增大。在多晶矽生產設備中，還原爐是整個生產係統的關（guān）鍵部件（jiàn），多晶矽生產企業要實現節能降耗就必須嚴格把控還原爐的運行。

眾所周知，對還原爐內壁進行（háng）清洗處（chù）理，就是降低能耗的（de）一（yī）種有效的方式，通過提高還原爐內壁光潔度及光亮度，使還原爐在（zài）矽棒生長過程中，爐壁在高溫狀態下，對熱輻射反射率的最大化，從而起到降低（dī）能耗的作用。



德高潔多晶（jīng）矽還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉噴頭形成（chéng）360°的網狀高壓水柱噴射表麵，從而完成鍾罩內部表麵的水力掃射，並采用專用（yòng）清（qīng）洗劑等為主要（yào）清洗液，先用純（chún）水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗（xǐ），之後再采用高純水衝洗（xǐ），最終完成清洗過程。

一、工作流程（chéng）

還原爐鍾罩到位—預清洗—清洗劑(堿液（yè）)清洗—漂洗—高純水（shuǐ）衝洗—淨化熱空氣幹燥—常溫幹燥—鍾罩吊（diào）走。

二、係統特點

1、德高潔多晶矽（guī）還原爐（lú）鍾罩清洗係統采用進口高壓泵，耐（nài）酸堿、耐高溫。清洗作業時三維旋轉噴頭實現自（zì）驅動旋轉、自動升降、全方位自動清洗，保證多晶矽的純度；

2、設置10萬（wàn）級空氣（qì）淨化換熱裝（zhuāng）置代替原氮氣電（diàn）加熱幹燥還原爐體工藝；

3、自行研發設計的自驅動旋轉升降噴射機構，一套係統（tǒng）實（shí）現多種型號還原爐鍾（zhōng）罩的清洗（xǐ）烘幹；

4、由於清洗（xǐ）過程中會有氫氣和酸性物質產生，德高潔多晶（jīng）矽還原爐鍾罩清洗係統采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次汙染；

5、德高潔（jié）多晶矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）係統充分（fèn）利用資源，設計了（le）高壓（yā）堿液和清（qīng）水的供給和分（fèn）開回收裝置，並進行淨化使後（hòu）序清洗水用於前序的（de）漂洗工序；利（lì）用多晶矽生產廠家的蒸汽餘熱（rè）將清洗介質加（jiā）熱，從而改變原電（diàn）加熱工（gōng）藝。

三、注意事項

多晶矽還原爐內的殘留物及清洗液（yè）具（jù）有腐蝕性，同時清洗中殘留氯矽（guī）烷會發（fā）生水解伴有（yǒu）氫氣產生，容易產（chǎn）生爆鳴（míng）燃燒。因此，現（xiàn）場操作中，需要做好（hǎo）安全防護措施。



1、清洗過程中必須穿戴好勞保用品，戴防護手套；

2、用氫氧化鈉溶液擦洗基（jī）盤時操作要緩慢，以免摩擦生熱引起著火；

3、基盤清洗過程（chéng）中要避免溶液流進（jìn）進料管和尾氣管內造成（chéng）二次汙染，德高潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統采用全封閉式清（qīng）洗裝置可完美解決二次（cì）汙染的問題（tí）；

4、清洗中要保證將鍾罩烘烤幹，避免有殘（cán）留水分；

5、清洗劑的選擇對清洗（xǐ）效果和作業安全有直接影響，這方麵我公司積累了豐富的實踐經驗解決閃（shǎn）爆等問題。