多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清理係統

一、係統概述（shù）
 
多（duō）晶（jīng）矽還原爐體及鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多晶矽生產工藝，用於（yú）還原車間反（fǎn）應釜中矽汙（wū）染物附著力不大的工況條件下無汙（wū）染幹式清洗。清洗時利用上下移（yí）動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜（fǔ）表麵進行（háng）噴吹和接觸式清（qīng）掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊（shū）除塵淨化器一次性進行除塵淨化。

二、係統特點

1、裝（zhuāng）置為移動單元式結構；

2、淨化後的空氣（qì）可達到10萬級的淨化（huà）精度可完全在（zài）室內排放；

3、采用全封閉幹式的清洗方式確保對環境不出現（xiàn）二次汙染；

4、電氣設計按隔（gé）爆的各項要求執行、 設備設（shè）有靜電導出裝（zhuāng）置；

5、控製方式可為全自動（dòng）或手動控製；

6、運行總功率小，噪聲低。
 
三、清掃工藝

反應釜吊裝至清洗（xǐ）台上→定（dìng）位（wèi）→連接→啟動（dòng）淨化器→啟（qǐ）動旋轉→上下移動機構→高壓氣體沿（yán）壁噴吹→旋轉刷至上而下接觸移動清（qīng）掃（sǎo）→淨化氣體置換→反應（yīng）釜吊起→檢查。

四、設備（bèi）組成

主要由清洗（xǐ）平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控製閥門、動力（lì）機構（gòu）、清洗機構、各管道快速接（jiē）頭、除塵淨化器、電氣（qì）控製係統（tǒng）等組成。

主要部件采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周（zhōu）期（qī）長。操作維修簡單。